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我国12英寸PECVD设备实现国产化

发布时间:2019-04-11 08:51:08

我国12英寸PECVD设备实现国产化

作者:王莹 来源:新华社

新华社沈阳4月16日电(王莹)沈阳拓荆科技有限公司承担的十一五科技重大专项90-65nm等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备研发与应用项目15日通过国家重大专项办公室验收,标志着我国12英寸PECVD设备实现国产化珠片厂家
,填补了,打破了国际垄断,提升了我国集成电路产业整体竞争力。

PECVD是芯片制造的4种重要设备之一,一条投资70亿美元的芯片制造生产线,需用约5亿美金采购100多台PECVD设备。其核心技术是利用等离子体增强化学气相沉积法砖厂脱硫塔
,在硅晶片表面镀一层固态薄膜。该技术完全被美日等少数发达国家垄断,设备进口受到严格限制。

90-65nm PECVD设备是用于12英寸芯片生产线的专用设备,是当今国际主流薄膜沉积设备。沈阳拓荆科技有限公司前身为中科院沈阳科学仪器股份有限公司PECVD事业部,2010年成立独立公司,由千人计划专家姜谦带领团队,专项研制12英寸PECVD设备。几年来相继攻克了设备平台设计、薄膜工艺开发、薄膜均匀性控制等关键技术,产品通过国内12英寸集成电路生产线考核验收,各项指标达到国际水平,成本为国际设备的70%。目前设备已销售至中芯国际、苏州晶方、武汉新芯、华天科技等企业,产品及服务得到用户的一致认可。

通过项目的实施,拓荆公司申请专利300项,建立技术标准9项,形成了5项新产品纸尿布厂家
,推动子系统供应商发展相关技术及产品国产化率达到70%。

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